主题竞争力
core competitiveness
对峙资料技术创新与
人才团队造就同步
Talent team development
占有一支 跨领域 跨学科 国际化 的专业团队
海内表博士
研发人员
驰名高校硕士
员工总数
Intellectual Property Construction
对峙资料技术创新与
知识产权建设同步
累计申请专利
其中已授权专利
对峙资料技术创新与知识产权建设同步
Independence of core raw materials
主题原资料自主化 ，保障供给链安全性和产品持续竞争性
PI
单体
PSPI
单体
树脂
光敏剂
INK
单体
树脂
PDMS
单体
树脂
CMP
Pad
预聚体
发泡剂
固化剂
主题辅料
CMP
Slurry
纳米研磨粒子
CPT
颜料及纳米分散液
对峙资料技术创新与用户工艺验证发展同步
Development of User Process Validation
半导体CMP测试评价中心
半导体显示资料测试评价中心
光刻胶测试评价中心
PI取向液测试评价中心
CPT及ZT验证评价系统
七大技术平台
Seven major technology platforms
有机合成技术平台
电荷调节剂 / 光敏聚酰亚胺PSPI单体 / 封装资料INK单体
高分子合成技术平台
彩色聚合碳粉CPT / CMP抛光垫 /
光敏聚酰亚胺PSPI
聚酰亚胺YP /
封装资料TFE-INK /
CMP抛光垫预聚体
物理化学技术平台
CMP抛光液 / CMP后洗濯 / 蚀刻后洗濯液
无机非金属资料技术平台
磁性载体 / CMP抛光液研磨粒子
微球合成发泡技术平台
微米级核壳结构实心微球 / 纳米级实心无机微球 / 微米级有机聚合物微球
工程设备设计技术平台
电荷调节剂CCA产线 /
彩色聚合碳粉CPT产线 / 洗濯液产线
CMP抛光液产线 /
聚酰亚胺PI/光敏聚酰亚胺PSPI产线
资料利用评价技术平台
CMP抛光资料利用评价中心 /
新型显示资料利用评价中心
打印复印通用耗材利用评价中心
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